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离子减薄仪
概述

    离子减薄仪中的稀薄气体氩气,在高压电场作用真空环境下,氩离子穿过盘状阴极中心孔时,受到加速与聚焦后产生高能粒子束轰击样品表面,高能离子与样品表面发生弹性碰撞,样品表面原子能量增大高于该原子的逸出功时,便飞离样品,这样就使样品表面不断失去原子,达到减薄的效果。

特点

    1、适用性广泛,对金属、非金属、半导体、矿物、骨骼和牙齿等几乎所有固体材料都可以用离子减薄技术来制备透射薄膜样品。
    2、离子轰击最材料各相区的择优倾向不明显,一般都可获厚度较为均匀地薄区,在电镜中观察时有更广阔的视野功选择,也可对样品进行大角度倾斜以获得预期结果。
    3、用离子轰击法制备的样品十分清洁,往往在样品表面有氧化一钝化膜或其他电解产物。在高倍下观察时影响成像质量,且易于与材料内部细小析出物混肴。
    4、可以从样品的一侧进行单面(单方向)减薄,这种制样技术特别适用于研究渗生长层,沉积等表面研究工作。除此外,用离子减薄技术不接触酸碱及其他有害试剂无损于操作者的安全与健康。由于上述原因,近几十年该项技术发展很快。

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