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化学气相沉积与原子层沉积前体
化学气相沉积与原子层沉积前体
不锈钢起泡器，150毫升，立式，电解抛光加注口，高温阀门（315°C），DOT 4B
1cyl
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不锈钢起泡器, 300ml, 立式, 电抛光, 带填充口,高温阀门(315°C), DOT 4B, UN冲压
1cyl
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三苯基铋
10g, 50g
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五氟化钽
5g, 25g
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丁氧化锑
5g, 25g
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乙氧化锑(III)
5g, 25g
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1,1,1-三氟-2,4二戊酮铟
1g
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乙醇铌/五乙氧基铌（安瓿瓶包装）
5g, 25g
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四乙氧基锆
5g, 25g
Strem
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四乙基锗
2g, 10g
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四氟化钛
10g, 50g
Strem
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四甲基硅烷
25g, 100g
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碘化硅(IV)
2g, 10g
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仲丁醇铝
100g, 450g
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三苯基硼烷
1g, 5g, 25g
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三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酸)铋
1g, 5g, 25g
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双(1-二甲氨基-2-甲基-2-丙醇酯)铅(II)
250mg, 1g, 5g
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（三甲基）五甲基环戊二烯基铂
250mg, 1g, 5g
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1-乙基环戊二烯基-1,3-环己二烯铱(I)
50mg, 250mg, 1g
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异丙基环戊二烯基铼三氯
250mg, 1g
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五甲基环戊二烯三羰基铼
100mg, 500mg, 2g
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环戊二烯三羰基铼
250mg, 1g, 5g
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十羰基二铼
25g
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三羰基三甲苯钨, 98%
1g, 5g
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六羰基钨
5g, 25g, 100g
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羰基钨
5g, 25g
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六羰基钨
5g, 25g
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双(叔丁基亚氨基)双(二甲基氨基)钨(VI)
1g, 5g
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（叔丁基酰亚胺基）三（二乙基氨基）钽（V） 98％（99.99％-Ta）
250mg, 1g, 5g
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叔丁酯亚氨基（二甲氨基）钽（V）
1g, 5g
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五(二甲氨基)钽(V)
1g, 5g, 25g
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乙氧基铪
5g, 25g
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