位置:产品中心 > 材料科学 > 电子材料 > 湿电子化学品 > 功能性湿化学品
3038正胶显影液图片
3038正胶显影液,2.380 ± 0.01wt%,高纯, 主成分TMAH
3038 Photoresist developer, 2.380 ± 0.01wt%, high-purity, main component TMAH
货号:A019393345
品牌:J&K
包装价格
4L640元留言咨询
产品介绍

作为半导体和微电子加工中,用于显影正性光刻胶的专用碱性溶液。

应用分类
材料科学 > 电子材料 > 湿电子化学品 > 功能性湿化学品
推荐产品
2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮
关注(0)
1H,1H,2H,2H-全氟癸基三甲氧基硅烷
关注(0)
三苯基氧化膦
关注(0)
三氟乙酸钾
关注(0)
7-溴喹唑啉-2,4(1H,3H)-二酮
关注(0)
妥布霉素
关注(0)
试仪产品网 | 产品信息网 | 试剂仪器网 | 化工字典
Copyright©2004-2026 chemdbs.com Corporation,All Rights Reserved
×

*留言类型

*留言内容

*联系人

*手机号

*单位名称

电子邮箱

*验证码