铜溅射靶, 76.2mm (3.0in) 直径 x 3.18mm (0.125in) 厚, 99.999% (metals basis)，99.999%

Copper sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.999% (metals basis)

仅供研发或工业应用，不可直接用于食品、药品、临床诊断或治疗。